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为了遏制中国的科技发展，美国一直施压荷兰政府，阻止阿斯麦向中国出口EUV光刻机。但最新的数据显示，中国从荷兰进口的光刻机数量和金额在今年大幅增长，达到了历史新高。

需求旺盛，我国从荷兰进口光刻机同比暴涨1036%

阿斯麦ASML是荷兰乃至全球光刻机市场的“绝对霸主”。具体来看，在2022年的全球光刻机市场，ASML的市场份额占比高达82%，稳居首位；而除了超高端的EUV光刻机市场由ASML“独占鳌头”，高端的ArFi和ArFdry光刻机也被ASML占据主要份额。并且预计在未来较长一段时间内，阿斯麦ASML在全球光刻机市场上的主导地位仍很难改变。

近年来，中国大力推动半导体行业发展，对高性能芯片和半导体设备的需求也随之释放，其中包括光刻机。但由于技术限制，目前中国光刻机市场需求仍高度依赖荷兰进口。

根据海关数据显示，9月我国从荷兰进口光刻机同比增长1036%，且第三季度中国大陆的销售额占ASML整体销售额比重已达46%。

ASML中国区总裁沈波表示，到2023年底ASML在中国的光刻机总数将接近1400台。即使考虑到地缘政治的影响，明年中国市场的整体需求依然处于非常旺盛的状态。

围追堵截，依然阻止不了我国芯片崛起

荷兰政府颁布的《半导体设备出口管制新规》在今年9月1日生效后，ASML发运TWINSCAN NXT2000i及后续推出的浸润式光刻系统都必须获得荷兰当局的许可。经过ASML与荷兰政府的沟通，荷兰政府允许ASML今年继续发运9月1日前已下单客户的TWINSCAN NXT2000i及后续推出的浸润式光刻系统。但是自2024年1月1日起，ASML将基本不会获得向中国客户发运对华出口这些产品的出口许可证。这些产品将事实上对中国禁运。

NXT1980Di是中国目前能够购买到最先进的ASML产品，国内主要将其用于28nm产线，通过多重曝光技术有机会做到更先进的制程。

ArFi光刻机理论上都可以通过多重曝光技术实现10nm-7nm工艺制程，光刻机型号的差异更多是体现在良率上。但是，多重曝光技术本身会影响良率和产能，会导致工艺路线变长，不稳定因素增多。增加多重曝光的次数，良率和产能都会下降，经济性会大打折扣。

美国试图堵上中国利用这种技术突破先进制程的漏洞。2023年10月17日，美国商务部工业和安全局（BIS）针对中国更新的“先进计算芯片和半导体制造设备出口管制规则”,将“专用卡盘覆盖”值的管制范围从小于等于1.5纳米，上升到2.4纳米，而NXT1980Di的“专用卡盘覆盖”为1.6纳米，原本不在管控范围，现在被纳入。

ASML高层在10月18日的财报会上表示，原则上NXT1980Di受美国芯片出口管制限制，但该限制的前提是这些光刻机被用来生产先进制程的芯片，NXT1980Di（较此前受到限制的DUV光刻机）属于低端浸润式工具，因此美国出口管制新规只会限制中国个别芯片厂。

ASML CEO温宁克表示，对中国客户的出口限制很难改变。“该规定是政府间深入沟通的结果，改变的前提是地缘政治首先改变。”

他还预计，按照ASML今年在中国大陆的业务规模估算，新法规会对2024年中国大陆业务产生10%-15%的影响。

面对DUV光刻机禁止出口的挑战，中国不甘示弱，开始着手突破这一技术壁垒。经过不懈努力，中国已经在7纳米工艺的芯片制造方面取得了重要突破。如今，中国已经能够自主生产7纳米芯片产品，并开始将相关产品投放市场。这意味着，中国不再依赖于进口芯片，具备了更大的自主掌控权。