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应美国政府要求，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）提前取消向中国出口部分光刻机。近日，ASML在一份声明中称：荷兰政府部分撤销了此前颁发的NXT:2050i和NXT:2100i光刻机在2023年发货的出口许可证，这将对ASML在中国的个别客户产生影响。

涉及此次出口许可禁令的两款设备中，ASML TWINSCAN NXT:2050i是一款高生产率、双级浸没式光刻工具，专为在先进节点批量生产300mm晶圆而设计；而另一款NXT:2100i 是双级浸没式光刻设备，其配备了新的投影光学调整系统，ArF光源为193nm，每小时光刻的晶圆数量达295片，主要用于光刻40nm-28nm芯片。

“我们预计此次出口许可证撤销及最新的美国出口管制限制不会对我们2023年的财务情况产生重大影响。在近期与ASML的沟通中，美国政府对其出口管制的适用范围和影响进行了进一步澄清。美国2023年10月17日发布最新出口管制规则，限制向个别先进芯片制造晶圆厂发运特定型号的中高端DUV（深紫外线）浸润式光刻机。”ASML方面表示。

ASML在声明中强调，公司将持续致力于遵守经营所在国家/地区所有适用的法律和法规，包括出口管制法规。

另有消息称，在ASML发布官方声明前夕，美国政府官员就要求ASML立即停止预先安排的部分机器向中国客户发货。

据悉，DUV光刻机被用于生产28nm及更成熟制程的芯片。理论上，在多重曝光技术下最高能制造10nm芯片产品，主要供应商有荷兰ASML、日本尼康、日本佳能等厂商。

ASML在全球芯片供应链中占据着至关重要的地位。在半导体制造行业，DUV光刻机可以用于制造7nm及以上制程的芯片，涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片，随着先进制程向5nm及以下进化，EUV成为未来光刻技术和先进制程的核心，主要用于7nm及以下先进芯片制造工艺，荷兰ASML是唯一的供应商。

因此，ASML设备出口限制会对全球半导体产业产生重要影响。